| 電鍍用純水設備工藝 | 2025-4-14 |
電鍍純水設備的核心在于膜技術的深度應用，傳統(tǒng)離子交換法已被反滲透+EDI替代，后者具有更好的環(huán)保性和經濟性，企業(yè)需根據水質要求、成本預算及維護能力選擇工藝。... |
| 純化水菌落總數超標解決方案 | 2025-4-8 |
1、生物膜污染
微生物在管道、儲罐內壁分泌胞外聚合物形成生物膜，常規(guī)消毒難以穿透，導致反復污染。
生物膜為微生物提供保護屏障，使其對抗菌劑耐受性增強，且持續(xù)釋放微生物至純化水中。
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| 醫(yī)藥純化水設備 | 2025-4-1 |
醫(yī)藥純化水設備
一、工藝流程
醫(yī)藥純化水設備采用二級RO+EDI方案，無需化學再生，水質穩(wěn)定，符合GMP認證。
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| 產水量1噸/小時的半導體超純水設備 | 2025-3-28 |
一、參數與標準
1、水質指標
1）電阻率：≥18.2 MΩ·cm（25℃）。
2）離子含量：硼≤0.005μg/L，硅≤0.01μg/L，金屬離子≤10ppt。
3）顆粒物：<50nm微粒≤100個/L，TOC≤5 ppb，DO≤5 ppb。
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| AI在超純水系統(tǒng)中的應用 | 2025-3-25 |
AI在超純水系統(tǒng)中的應用主要集中在半導體制造、數據中心冷卻、研發(fā)設備維護等關鍵領域，通過智能化調控顯著提升水質穩(wěn)定性、降低能耗并優(yōu)化資源利用率。... |
| CO?對EDI的性能影響 | 2025-3-20 |
二氧化碳對EDI性能的影響主要體現在結垢風險、離子遷移效率及水質穩(wěn)定性上。通過預處理（如加堿脫碳）、工藝參數優(yōu)化（pH、溫度、流量）及系統(tǒng)設計改進，可有效降低CO?的負面影響，確保EDI長期穩(wěn)定運行。... |
| EDI設備的進水條件 | 2025-3-19 |
一、水質參數要求
1、電導率范圍：1-10 μS/cm（以NaCl計），最大不超過25 μS/cm。
2、pH值范圍：7.0-8.0（最佳電阻率性能），可接受范圍6.5-8.5。
3、溫度范圍：15-35℃（最佳25℃）。
4、總硬度：以CaCO... |
| EDI模塊在醫(yī)藥生物領域的應用 | 2025-3-17 |
EDI模塊在醫(yī)藥生物領域的應用主要涵蓋了制藥用純化水處理、實驗室超純水制備、生物制劑生產、醫(yī)療設備清洗和消毒以及疫苗和血液制品生產用水等多個方面。... |
| AI智能模塊在純水設備中的應用 | 2025-3-14 |
1、水質監(jiān)測
通過AI技術可對純水水質進行實時監(jiān)測，同時根據水質數據自動對過濾模式進行調整，確保水質達標。
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| 多介質過濾器濾料選擇 | 2024-8-6 |
雙層濾料過濾器所用的無煙煤相對密度為1.4—1.6，粒徑為0.8—1.8mm，石英砂相對密度為2.6—2.65，粒徑為0.5—1.2mm；3層濾料過濾器所用的錳砂其相對密度為4.7—5.0，粒徑為0.5—4mm。... |
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